离子溅射镀膜原理及特点

离子溅射镀膜

原理：离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样表面上形成一层均匀的薄膜。

特点：对于任何待镀材料，只要能做成靶材，就可实现溅射（适合制备难蒸发材料，不易得到高纯度的化合物所对应的薄膜材料）；溅射所获得的薄膜和基片结合较好；溅射工艺可重复性好，膜厚可控制，同时可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。

二次电子探测器、x射线能谱分析仪等来区分

电子经过一系列电磁透镜成束后，打到样品上与样品相互作用，会产生二次电子、背散射电子、俄歇电子以及x射线等一系列信号。所以需要不同的探测器譬如二次电子探测器、x射线能谱分析仪等来区分这些信号以获得所需要的信息。虽然x射线信号不能用于成象，但习惯上，仍然将x射线分析系统划分到成象系统中。

有些探测器造价昂贵，比如robins式背散射电子探测器，这时，可以使用二次电子探测器代替，但需要设定一个偏压电场以筛除二次电子。

进行从高倍到低倍的连续观察

进行从高倍到低倍的连续观察：扫描电镜的放大倍数范围很宽（从5到20万倍连续可调），且一次---好后即可从高倍到低倍、从低倍到高倍连续观察，不用重新---，这对进行分析---方便。观察生物试样：由于电子照射面发生试样的损伤和污染程度很小，这一点对观察一些生物试样---重要。进行动态观察：如果在样品室内装有加热、冷却、弯曲、拉伸和离子刻蚀等附件，则可以观察相变、断烈等动态的变化过程。

仪器设计了阶段式真空(stepvacuum)

平时操作，若要将样品室真空亦保持在10-8pa(10-10torr)，则抽真空的时间将变长而降低仪器的便利性，更增加仪器购置成本，因此一些仪器设计了阶段式真空(step vacuum)，亦即使电子、磁透镜及样品室的真空度依序降低，并分成三个部份来读取真空计读数，如此可将样品保持在真空度10-5pa的环境下即可操作。平时待机或更换样品时，为防止电子污染，皆使用真空阀(gun valve)将电子及磁透镜部份与样品室隔离，实际观察时再打开使电子束通过而打击到样品。